精密触媒制御ナノカーボン合成?分析装置

メーカー
株式会社アルバック
用途
薄膜 / ナノ調整加工
精密触媒制御ナノカーボン合成?分析装置

基本仕様

システム構成触媒形成用MBE、観察用高真空STM、CVD
基材搬送高真空下半自動
MBEソース4種(Feなど)
CVD最高温度~1000℃
STM原子像観察可

概要?用途(支援例等)

この装置は先行事業ナノテクノロジープラットフォーム事業にて導入された設備であり、合成支援においてご利用いただける機材です。3種の機能(MBE、CVD、STM)を同じ真空容器の中に収納し、同一試料に対して数段階の連続処理を行うことができます。MBE装置は本来半導体材料などの単結晶を育成するものですが、現在はFe、Cu、Niのソースが充填されており、極薄の金属膜を形成することができます。CVDではメタンなどの反応が可能で、グラフェンなどの成長ができます。STM はグラフェン膜などの観察に加え、一般的な超高真空STMが必要な用途にご利用いただけます。
※合成支援で利用可

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